প্রধান পণ্য: ঘূর্ণায়মান সিলিকন টার্গেট উপাদান
এটি ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং সরঞ্জামের জন্য উপযুক্ত একটি টিউবুলার টার্গেট উপাদান, যার মূল কাঁচামাল হিসেবে উচ্চ-বিশুদ্ধ সিলিকন (বিশুদ্ধতা সাধারণত ≥৯৯.৯৯৯৯%) ব্যবহার করা হয়। এটি যান্ত্রিকভাবে একটি টিউবে প্রক্রিয়াজাত করা হয় এবং তারপরে একটি একক ইউনিটে পরিণত করার জন্য একটি টাইটানিয়াম ব্যাকিং টিউবের সাথে যুক্ত করা হয়। এটি প্রধানত ফিজিক্যাল ভেপার ডিপোজিশন (PVD) প্রক্রিয়ায় ব্যবহৃত হয় যেমন ফ্ল্যাট ডিসপ্লে প্যানেল, অপটিক্যাল লেন্স তৈরি এবং ফটোভোলটাইক সেলের জন্য পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশন।
সুবিধা: ① উচ্চ বিশুদ্ধতা, Si≥৯৯.৯৯৯৯%
② লক্ষ্য উপাদানটি কোনো জোড়া ছাড়াই সমন্বিত করা হয়, এবং লক্ষ্য উপাদানের দৈর্ঘ্য ২ মিটার পর্যন্ত পৌঁছাতে পারে।
③ উচ্চ শক্তি, উচ্চ তাপ পরিবাহিতা, দীর্ঘমেয়াদী স্পাটারিংয়ের জন্য উপযুক্ত, কম কণা ত্রুটি সহ।