Der monokristalline Silizium-Fokussierring ist eine Kernkomponente eines Plasma-Bearbeitungsgeräts, das hauptsächlich im Bereich der Halbleiterfertigung eingesetzt wird. Er verbessert die Ätzgleichmäßigkeit und reduziert die Rückseitenabscheidung, indem er den Rand des Wafers umgibt.
Vorteile: ① Monokristalline Struktur weist weniger Defekte, höhere mechanische Festigkeit und eine überlegene Beständigkeit gegen Plasma-Bombardement im Vergleich zu polykristallinen Materialien auf
② Die Oberflächengüte kann das Nanometer-Niveau erreichen, wodurch Partikelabwurf und Kontamination des Wafers verhindert werden
③ Hoher Übereinstimmungsgrad zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten und dem Wafer, wodurch er bei Hochtemperaturprozessen weniger anfällig für Verformungen ist