Detalles esenciales
Envío:Transporte terrestre, Transporte marítimo
Introducción del producto
Producto principal: Material objetivo de silicio rotatorio
Es un material objetivo tubular adecuado para equipos de pulverización catódica magnétron, con silicio de alta pureza (pureza típicamente ≥99.9999%) como materia prima principal. Se procesa mecánicamente en un tubo y luego se une con un tubo de respaldo de titanio para formar una sola unidad. Se utiliza principalmente en procesos de deposición física de vapor (PVD) como la preparación de paneles de visualización planos, lentes ópticas y la deposición de películas delgadas para células fotovoltaicas.
Ventajas: ① Alta pureza, Si≥99.9999%
② El material objetivo se integra sin empalmes, y la longitud del material objetivo puede alcanzar hasta 2 metros.
③ Adecuado para alta potencia, alta conductividad térmica, pulverización catódica a largo plazo, con bajos defectos de partículas.
Es un material objetivo tubular adecuado para equipos de pulverización catódica magnétron, con silicio de alta pureza (pureza típicamente ≥99.9999%) como materia prima principal. Se procesa mecánicamente en un tubo y luego se une con un tubo de respaldo de titanio para formar una sola unidad. Se utiliza principalmente en procesos de deposición física de vapor (PVD) como la preparación de paneles de visualización planos, lentes ópticas y la deposición de películas delgadas para células fotovoltaicas.
Ventajas: ① Alta pureza, Si≥99.9999%
② El material objetivo se integra sin empalmes, y la longitud del material objetivo puede alcanzar hasta 2 metros.
③ Adecuado para alta potencia, alta conductividad térmica, pulverización catódica a largo plazo, con bajos defectos de partículas.
