حلقه تمرکز سیلیکون تک کریستالی یک جزء اصلی دستگاه پردازش پلاسما است که عمدتاً در زمینه تولید نیمه‌هادی‌ها استفاده می‌شود. این حلقه با احاطه کردن محیط ویفر، یکنواختی اچینگ را افزایش داده و رسوب‌گذاری پشت را کاهش می‌دهد.
مزایا: ① ساختار تک کریستالی دارای نقص‌های کمتر، استحکام مکانیکی بالاتر و مقاومت برتر در برابر بمباران پلاسما در مقایسه با مواد پلی‌کریستالی است
② پرداخت سطح می‌تواند به سطح نانومتری برسد و از ریزش ذرات و آلودگی ویفر جلوگیری کند
③ ضریب انبساط حرارتی و ویفر تطابق بالایی دارند، که باعث می‌شود در فرآیندهای دمای بالا کمتر مستعد تغییر شکل باشند