La bague de focalisation en silicium monocristallin est un composant essentiel d'un dispositif de traitement au plasma, principalement utilisé dans le domaine de la fabrication de semi-conducteurs. Elle améliore l'uniformité de la gravure et réduit le dépôt au dos en entourant la périphérie de la tranche.
Avantages : ① La structure monocristalline présente moins de défauts, une résistance mécanique plus élevée et une résistance supérieure aux bombardements par plasma par rapport aux matériaux polycristallins
② La finition de surface peut atteindre le niveau nanométrique, empêchant le détachement de particules et la contamination de la tranche
③ Coefficient de dilatation thermique et de la tranche présentant un degré de correspondance élevé, ce qui la rend moins sujette à la déformation lors des processus à haute température