L'anello di focalizzazione in silicio monocristallino è un componente fondamentale di un dispositivo di processo al plasma, utilizzato principalmente nel campo della produzione di semiconduttori. Migliora l'uniformità dell'incisione e riduce la deposizione sul retro circondando la periferia del wafer.
Vantaggi: ① La struttura monocristallina presenta meno difetti, maggiore resistenza meccanica e una resistenza superiore al bombardamento al plasma rispetto ai materiali policristallini
② La finitura superficiale può raggiungere il livello nanometrico, prevenendo la dispersione di particelle e la contaminazione del wafer
③ Coefficiente di dilatazione termica elevato e corrispondente al wafer, rendendolo meno incline alla deformazione durante i processi ad alta temperatura