O anel de foco de silício monocrystalino é um componente central de um dispositivo de processamento de plasma, utilizado principalmente no campo da fabricação de semicondutores. Ele melhora a uniformidade de gravação e reduz a deposição na parte traseira ao cercar a periferia do wafer.
Vantagens: ① A estrutura monocrystalina possui menos defeitos, maior resistência mecânica e superior resistência ao bombardeio de plasma em comparação com materiais policristalinos
② O acabamento da superfície pode atingir o nível nanométrico, prevenindo a liberação de partículas e a contaminação do wafer
③ Alto grau de correspondência entre o coeficiente de expansão térmica e o wafer, tornando-o menos propenso a deformações durante processos de alta temperatura