Монокристаллическое кремниевое фокусирующее кольцо является ключевым компонентом устройства плазменной обработки, в основном используемым в области производства полупроводников. Оно улучшает однородность травления и снижает осаждение на обратной стороне, окружая периферию подложки.
Преимущества: ① Монокристаллическая структура имеет меньше дефектов, более высокую механическую прочность и превосходное сопротивление плазменному бомбардированию по сравнению с поликристаллическими материалами
② Обработка поверхности может достигать нанометрового уровня, предотвращая отслаивание частиц и загрязнение подложки
③ Высокая степень соответствия коэффициента теплового расширения и подложки, что делает её менее подверженной деформации при высокотемпературных процессах