ผลิตภัณฑ์หลัก: วัสดุเป้าหมายซิลิคอนแบบหมุน
เป็นวัสดุเป้าหมายแบบท่อที่เหมาะสำหรับอุปกรณ์สปัตเตอร์แบบแม่เหล็กไฟฟ้า โดยมีซิลิคอนความบริสุทธิ์สูง (ความบริสุทธิ์โดยทั่วไป ≥99.9999%) เป็นวัตถุดิบหลัก มีการแปรรูปทางกลเป็นท่อ จากนั้นจึงเชื่อมต่อกับท่อรองรับไทเทเนียมเพื่อสร้างเป็นหน่วยเดียว ส่วนใหญ่ใช้ในกระบวนการ Physical Vapor Deposition (PVD) เช่น การเตรียมแผงจอแสดงผลแบบแบน, เลนส์ออปติคัล, และการเคลือบฟิล์มบางสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์
ข้อดี: ① ความบริสุทธิ์สูง, Si≥99.9999%
② วัสดุเป้าหมายถูกรวมเข้าด้วยกันโดยไม่มีการต่อ และความยาวของวัสดุเป้าหมายสามารถยาวได้ถึง 2 เมตร
③ เหมาะสำหรับกำลังสูง, การนำความร้อนสูง, การสปัตเตอร์ระยะยาว, พร้อมข้อบกพร่องของอนุภาคต่ำ