製品概要

本シリーズの真空雰囲気管状炉は、真空、雰囲気保護、高温加熱を一体化したコンパクトな熱処理装置です。主に金属、非金属、セラミックス、新素材、新エネルギーなどの材料を高温、高/低真空または制御雰囲気下での焼結、アニーリング、時効、ろう付け、触媒反応などのプロセス。装置は構造がシンプルで、サイズが小さく、機能が豊富で、経済的であり、実験室の研究開発および企業の小規模生産に理想的な選択肢です。

技術的特徴

多功能工艺环境：支持真空（高真空/低真空）、惰性气氛、还原性气氛等多种热处理条件，一机多用。

コンパクト管状構造：水平または垂直配置のアルミナ管を採用/石英管作为工作腔体，体积小、占用空间少，样品装卸方便。

高精度温控系统：配备PID智能调节程序，控温精度达±1°C、多段昇温に対応/保温/降温曲线设定。

优质加热元件：根据温度需求选用电阻丝（1200°C）、シリコンカーバイド棒（1400°C）またはシリコンモリブデン棒（1600°C以上）、均一で安定した加熱。

良好的真空与气密性：系统密封性能优异，配合真空泵可达-0.1 MPa（またはより高い真空度）、および複数のプロセスガスを正確に導入できます。

安全保護機能：過温警報、断線保護、過電流保護、炉管破裂検出（オプション）などの安全対策を備え、信頼性の高い運転を実現します。

オプション構成：マスフローコントローラー（MFC）实现多路气体混合控制，或配置快速冷却系统提高工艺效率。

注：実際の作業条件に応じて非標準カスタマイズが可能です。

应用领域

新材料研发：荧光粉、碳纳米管、石墨烯、陶瓷粉体等在真空或气氛下的合成与烧结。

金属与非金属热处理：细小零件或粉末材料的真空退火、氢气还原、氮化处理等。

半導体・新エネルギー：太陽光発電材料、リチウム電池正極・負極材料の実験的焼結。

高校与科研院所：材料、物理、化学、电子等学科的实验室研究及教学演示。

企业小批量生产：贵金属提纯、催化剂活化、精密钎焊等中小规模生产任务。

优点

構造がシンプルで操作が容易：複雑な設置は不要で、インターフェースが使いやすく、通常の実験室担当者でもすぐに使用できます。

体积小巧，节省空间：可放置于标准实验台或通风橱内，尤其适合空间有限的实验室。

功能多样，适应性强：既能做真空处理，也能实现多种气氛保护，满足不同材料工艺需求。

経済的なコスト、高いコストパフォーマンス：大型真空炉や雰囲気炉と比較して、初期投資コストが低く、スタートアップ企業や研究開発チームに最適です。

控温精准，重复性好：PID精密な制御によりプロセスの均一性を確保し、実験および製品の品質を向上させます。

安全可靠：多重保护系统与密封设计，确保操作人员及样品安全。

拡張性：多段雰囲気制御、排ガス処理などのモジュールを容易にアップグレードでき、より複雑なプロセス要件に対応します。