Produktübersicht
Diese Serie von Vakuum-Atmosphären-Rohröfen ist eine kompakte Wärmebehandlungsanlage, die Vakuum, Atmosphärenschutz und Hochtemperatursynthese integriert. Sie wird hauptsächlich für die Hochtemperaturbehandlung von Metallen, Nichtmetallen, Keramiken, neuen Materialien, neuen Energien usw. in Hochtemperatur- und Hochdruckumgebungen eingesetzt./Sintern, Glühen, Altern, Löten, katalytische Reaktionen und andere Prozesse in einem Vakuum- oder kontrollierten Atmosphärenumfeld. Die Anlage zeichnet sich durch eine einfache Struktur, geringe Größe, reichhaltige Funktionen und einen wirtschaftlichen Preis aus und ist somit die ideale Wahl für die Laborforschung und die Kleinserienproduktion von Unternehmen.
Technische Merkmale
Multifunktionales Prozessumfeld: Unterstützt Vakuum (Hochvakuum/Niedervakuum), Inertgas, reduzierende Atmosphäre und andere Wärmebehandlungsbedingungen, ein Gerät für mehrere Zwecke.
Kompakte Rohrofenstruktur: Verwendung von Korundrohren in horizontaler oder vertikaler Anordnung/Quarzrohr als Arbeitskammer, klein, platzsparend, einfaches Be- und Entladen von Proben.
Hochpräzises Temperaturregelsystem: Ausgestattet mitPIDIntelligente Regelprogramme, Regelgenauigkeit bis zu±1°C, unterstützt mehrstufige Temperaturerhöhung/Haltezeit/Einstellung der Abkühlkurve.
Hochwertige Heizelemente: Je nach Temperaturanforderung werden Widerstandsdrähte (1200°C), Siliziumkarbidstäben (1400°C) oder Siliziummolydänstäben (1600°Coben), gleichmäßige und stabile Erwärmung.
Gute Vakuum- und Dichtheit: Hervorragende Systemdichtheit, erreichbar mit einer Vakuumpumpe bis zu-0,1 MPa(oder höherer Vakuumgrad) und ermöglicht die präzise Einleitung verschiedener Prozessgase.
Sicherheitsfunktionen: Verfügt über Sicherheitsmaßnahmen wie Übertemperaturalarm, Schutz bei Drahtbruch, Überstromschutz, Erkennung von Rissen im Ofenrohr (optional) usw. für einen zuverlässigen Betrieb.
Optionale Konfiguration: Massendurchflussmesser können hinzugefügt werden (MFC) zur Steuerung von Mehrkanal-Gasgemischen oder mit einem Schnellkühlsystem zur Steigerung der Prozesseffizienz.
| Modell | X1700-60 | X1700-80 | X1700-100 |
| Ofenraumgröße | Ø60mm | Ø80mm | Ø100mm |
| Effektiver Bereich | 200mm | ||
| Maximale Temperatur | 1200°C/1400°C/1700°C | ||
| Heizung | Heizwiderstand/Siliziumkarbidstab/Silizium-Molybdän-Stab | ||
| Gehäusestruktur | Doppelwandige luftgekühlte Gehäusestruktur | ||
| Isoliermaterial | Aluminiumoxid-Polykristallfasern | ||
| Temperaturregelgenauigkeit | ±1°C | ||
| Temperaturregelungsmodus | PIDRegelung | ||
| Aufheizrate | ≤20°C/min | ||
| Grenzvakuumbereich | ≤-100Pa | ||
| Grenzdruck | ≤20KPa | ||
| Steuerungssystem | Touchscreen, vollautomatischPLCSteuerungssystem | ||
Hinweis: Nicht standardmäßige Anpassungen können je nach tatsächlichen Betriebsbedingungen vorgenommen werden.
Anwendungsbereiche
Forschung und Entwicklung neuer Materialien: Synthese und Sintern von Leuchtstoffen, Kohlenstoffnanoröhren, Graphen, Keramikpulvern usw. unter Vakuum oder Schutzgas.
Wärmebehandlung von Metallen und Nichtmetallen: Vakuumglühen, Wasserstoffreduktion, Nitrierbehandlung usw. von Kleinteilen oder Pulvermaterialien.
Halbleiter und neue Energien: Experimentelles Sintern und Synthese von Photovoltaikmaterialien, Kathoden- und Anodenmaterialien für Lithiumbatterien.
Universitäten und Forschungseinrichtungen: Forschung und Lehre in Laboren der Fachbereiche Materialwissenschaft, Physik, Chemie, Elektronik usw.
Kleine Chargenproduktion für Unternehmen: Für Produktionsaufgaben im kleinen bis mittleren Maßstab wie Edelmetallraffination, Katalysatoraktivierung, Präzisionslöten usw.
Vorteile
Einfache Struktur, bequeme Bedienung: Keine komplizierte Installation erforderlich, benutzerfreundliche Oberfläche, auch für normales Laborpersonal leicht zu bedienen.
Kompakte Größe, platzsparend: Kann auf einem Standard-Labortisch oder in einem Abzug platziert werden, besonders geeignet für Labore mit begrenztem Platzangebot.
Vielseitig und anpassungsfähig: Kann sowohl Vakuumbehandlungen als auch verschiedene Schutzgasatmosphären durchführen, um unterschiedliche Materialprozessanforderungen zu erfüllen.
Wirtschaftlich und kostengünstig: Im Vergleich zu großen Vakuum- oder Atmosphärenöfen sind die Investitionskosten gering, was ihn zur bevorzugten Wahl für Start-ups und Forschungsteams macht.
Präzise Temperaturregelung, gute Wiederholbarkeit:PIDPräzise Regelung gewährleistet Prozesskonsistenz und verbessert die Experimentier- und Produktqualität.
Sicher und zuverlässig: Mehrfachschutzsysteme und Dichtungsdesign gewährleisten die Sicherheit des Bedieners und der Proben.
Einfach erweiterbar: Module wie Mehrkanal-Atmosphärenkontrolle und Abgasreinigung können bequem aufgerüstet werden, um komplexere Prozessanforderungen zu erfüllen.







