ホリスティックリソグラフィの価値を提供
ASMLでは、お客様がシリコンウェハー上にマイクロチップパターンを量産するために必要なすべてを提供しています。当社のホリスティックなアプローチは、計算モデリング、光学メトロロジー、電子ビーム検査をリソグラフィシステムと統合することで、チップメーカーが最も厳しいパターニング要件を満たし、チップ製造プロセスを迅速かつ適切なコストで最適化できるようにします。
EUVリソグラフィシステム
当社の極端紫外線（EUV）リソグラフィシステムは、大量生産において最高の解像度を提供します。ASML独自の最先端技術により、チップメーカーは単一チップ上により多くのトランジスタを搭載できるようになり、ムーアの法則を前進させています。
DUVリソグラフィシステム
深紫外線（DUV）リソグラフィシステムは半導体業界の礎です。当社のポートフォリオにあるドライおよび液浸DUVシステムは、最先端のロジックおよびメモリチップの大量生産、新しいチップのイノベーション、そしてその間のあらゆる用途に使用されています。
再生システム
これまでに出荷したほぼすべてのリソグラフィシステムが、現在も顧客のファブで使用されています。当社は「クラシック」なPAS 5500およびTWINSCANリソグラフィシステムを再生し、新たな寿命と新たな目的を与えています。
カスタマーサポート
ASMLでは、常にお客様が最優先です。サービスエンジニアやアプリケーションスペシャリストを含む約10,000人のカスタマーサポート従業員が、お客様のファブ内のシステムが円滑に稼働するよう努めています。