홀리스틱 리소그래피 가치 제공
ASML은 고객이 실리콘 웨이퍼에 마이크로칩 패턴을 대량 생산하는 데 필요한 모든 것을 제공합니다. 당사의 총체적 접근 방식은 컴퓨테이셔널 모델링, 광학 계측 및 전자빔 검사를 리소그래피 시스템과 통합하여 칩 제조업체가 가장 엄격한 패터닝 요구 사항을 충족하고 칩 제조 프로세스를 신속하고 적절한 비용으로 최적화할 수 있도록 합니다.
EUV 리소그래피 시스템
당사의 극자외선(EUV) 리소그래피 시스템은 대량 생산에서 최고의 해상도를 제공합니다. ASML만의 독자적인 최첨단 기술을 통해 칩 제조업체가 단일 칩에 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있게 함으로써 무어의 법칙을 앞으로 나아가게 합니다.
DUV 리소그래피 시스템
심자외선(DUV) 리소그래피 시스템은 반도체 산업의 초석입니다. 당사 포트폴리오의 드라이 및 이머전 DUV 시스템은 가장 첨단 로직 및 메모리 칩의 대량 생산, 새로운 칩 혁신 및 그 사이의 모든 분야에 사용됩니다.
리퍼비시 시스템
우리가 지금까지 출하한 거의 모든 리소그래피 시스템은 여전히 고객 팹에서 사용되고 있습니다. 우리는 '클래식' PAS 5500 및 TWINSCAN 리소그래피 시스템을 새롭게 단장하여 새로운 수명과 새로운 용도로 재탄생시킵니다.
고객 지원
ASML에서는 항상 고객이 최우선입니다. 서비스 엔지니어와 애플리케이션 전문가를 포함한 약 10,000명의 고객 지원 직원과 함께 고객의 팹에 있는 시스템이 원활하게 작동하도록 보장합니다.