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我們的極紫外光（EUV）微影系統在大規模量產中提供最高解析度。透過讓晶片製造商能將更多電晶體塞進單一晶片，這項 ASML 獨有的最先進技術正推動摩爾定律向前邁進。

EUV 產品

深紫外光 (DUV) 微影系統是半導體產業的基石。我們產品組合中的乾式與浸潤式 DUV 系統，用於最先進邏輯與記憶體晶片的大量製造、創新晶片研發以及介於兩者之間的各種應用。

DUV 產品

我們出貨過的幾乎每一套微影系統，至今仍在客戶的晶圓廠中使用。我們翻新「經典」PAS 5500 與 TWINSCAN 微影系統，賦予它們全新的生命與用途。

我們的量測與檢測產品組合提供速度與精準度，涵蓋晶片製造過程中的每一個環節，從研發到大規模生產。

ASML正在開創這項業界領先的技術，最大限度地減少干擾晶片品質的物理和化學效應。

在ASML，客戶永遠是第一優先。我們擁有約10,000名客戶支援員工，包括服務工程師和應用專家，確保我們在客戶晶圓廠中的系統順暢運行。

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